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EDI设备的化学清洗方法及EDI膜块的再生方法介绍

2010-01-10 05:55:09

EDI设备的化学清洗方法及EDI膜块的再生方法介绍-EDI超纯水设备膜堆-EDI离子设备-EDI膜

EDI超纯水设备膜堆

膜块堵塞的原因主要有下面几种式:
o 颗粒/胶体污堵
o 无机物污堵
o 有机物污堵
o 微生物污堵

清洗方法时间(分) 备注

酸洗:30-50分
碱洗:30-50分
盐水清洗:35-60分
消毒:25-40分
冲洗≥50分
再生≥120分 根据系统的工艺要求直至达到出水电阻率要求指标

 备注

1. 酸洗温度15-25℃
2. 碱洗温度25-30℃
3. 配药液用水必须是RO产水或高于RO产水的去离子水

• 对于膜块数量大于1块时,按表中配液的数量乘以膜块数量

EDI膜块的再生
o 确认EDI膜块内没有任何的化学药品残留存在。
o 使系统构建成一个闭路自循环管路。
o 按照正常运行的模式调节好所有的流量和压力。
o 给EDI送电,调节电流从2A开始分步缓慢向EDI加载电流(大不能超过4A)。
o 直至产水电阻率达工艺要求到或者≥12MΩ.cm
o 提示:膜块的再生是一个比较长的时间,有时可能会长达10-24小时甚至更长的时间。

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